Forskel mellem konventionel anodisk oxidation og hård anodisk oxidation

Forskel mellem konventionel anodisk oxidation og hård anodisk oxidation

Der er følgende forskelle i drift og belægning:

Forskelle i driftsforhold er:

1. Temperaturen i konventionel anodisk oxidation er ca. 18-22 ℃, og den med tilsætningsstoffer kan nå 30 ℃. Hvis temperaturen er for høj, vises pulver eller revner let. Den hårde anodiske oxidation er generelt under 5 ℃, og jo lavere temperaturen er, jo højere er den hårde anodiske oxidation.

2. Koncentrationsforskel: Konventionel anodisk oxidation er ca. 20%, og hård anodisk oxidation er generelt 15% eller mindre.

3. Aktuel / spændingsforskel: Konventionel anodisk oxidationsstrømdensitet: 1-1,5A / DM2; Hård anodisk oxidation: 1,5-3A/DM2

Forskellene i filmegenskaber er:

1. Filmtykkelse: Generelt er tykkelsen af ​​hård anodisk oxidationsfilm mere end 15 μm, hvis tykkelsen er for lav, vil den ikke opfylde hårdhedskravene. Mens tykkelsen af ​​konventionel anodisk oxidationsfilm er relativt tynd.

2. Overfladetilstand: Den konventionelle anodiske oxidationsoverflade er relativt flad, mens den hårde oxidationsoverflade er relativt ru.

3. Forskellig porøsitet: Konventionel anodisk oxidationsporøsitet er høj, mens hård anodisk oxidationsporøsitet er lav.

4. Forskellige anvendelsesbegivenheder: Konventionel anodisk oxidation bruges hovedsageligt til dekoration, mens hård anodisk oxidation hovedsageligt bruges til funktion, som generelt bruges til slidbestandige og elektriske resistente lejligheder.